18610611799
產品詳情
應用領域：
離子束刻蝕，離子束濺射，離子束輔助鍍膜
產品特點：
完善的射頻和離子源控製系統；快速達到放電穩定狀態（10s以內）；中和器快速穩定（3s以內）；方便角度調解；優化的放電均勻性；法蘭安裝方便。
離子源本體
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應用領域：
離子束刻蝕，離子束濺射，離子束輔助鍍膜
產品特點：
完善的射頻和離子源控製系統；快速達到放電穩定狀態（10s以內）；中和器快速穩定（3s以內）；方便角度調解；優化的放電均勻性；法蘭安裝方便。
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